背景介紹
近幾年來國內電子行業發展迅猛，隨之而來的是生產過程中產生了大量的有毒有害廢水，包括
酸鹼廢水
、
含氟廢水
、
金屬廢水
、
有機廢水
、
氰化物廢水
等。這些廢水必須經過處理達標後才能排放。目前，電子行業仍沒有針對性的汙染物排放標準釋出，其執行的標準仍為《汙染物綜合排放標準》，但是，電子廠對廢水排放有嚴格的內控指標。電子廠除了監控 COD、氨氮等常規指標外，也非常重視鎳、銅等重金屬汙染物的監控。 HMA 總鎳分析儀用於排口廢水總鎳的監測，測試資料透過儀表自帶的 RS485 通訊傳輸至 PLC，實時上傳至當地環保局。儀表從企業正常生產後開始執行，測量資料穩定。
應用情況
總鎳分析儀與 CYQ 預處理器聯動，按設定時間定時啟動取樣泵抽取水樣。CYQ 預處理器的作用是自清洗進樣管路和提供連續的流速穩定的水樣，確保儀表正常執行，減少維護量。初次安裝除錯時，運維人員採用儀表自動校準功能進行校準，然後測量標液，結果偏差在±3% F。S。之內。
電子廠廢水總鎳的內控排放標準為<0。1 mg/L，每天取水樣送至第三方檢測機構檢測，與第三方原子吸收相比，線上 HMA 總鎳的測試結果偏差在允許的偏差範圍之內，可滿足使用者線上測量要求。總鎳分析儀的試劑配方公開，每月更換一次試劑，期間無需人為維護，儀器表現出較好的穩定性。
總結
HMA 總鎳分析儀採用丁二酮肟比色法，
測量穩定性較好
，與實驗室方法比對
具有較好的一致性
，滿足電子廠排口廢水監測要求；HMA 總鎳分析儀的試劑配方公開，每月更換一次試劑，執行期間
維護量較低
，
有效降低了企業的執行成本
。
