光刻機是生產製造晶片的必要裝置，尤其是製程先進製程的晶片，其更需要EUV等先進的光刻機裝置。
據瞭解，國內廠商暫時無法生產製造7nm、5nm等製程的晶片，也是因為缺少EUV光刻機，雖然中芯早就全款訂購了一臺，但由於美國修改規則等導致ASML至今沒有交付。
在這樣的情況下，國內晶片廠商就寄希望於國內的研發機構以及光刻機廠商。
其中，華為與中科院合作，將光刻機相關技術作為優先攻克的課題，上海微電子也在積極研發製造新一代國產光刻機。
據瞭解，上海微電子目前最先進的光刻機能夠生產90nm的晶片，雖然與ASML還有一段差距，但上海微電子研發的光刻機等裝置，已經佔領國內八成以上的市場。
早些時候，上海市人大代表曾公開表示，上海微電子自主研發新一代光刻機很快就將下線量產，該光刻機屬於沉浸式，與ASML的DUV光刻機採用的光源波長均突破193nm。
也就是說，上海微電子的全新一代光刻機能夠用於生產製造28nm到10nm之間的晶片，甚至可以採用多層曝光技術生產7nm晶片。
畢竟臺積電就是採用ASML的DUV光刻機量產了7nm晶片，在EUV光刻機投用後，其又推出了7nm EUV工藝。
如今，國產先進光刻機有新訊息傳來，情況是這樣的。
根據外媒最新的報道，上海微電子全新一代光刻機預計在2021年年底或2022年初量產下線，其採用與ASML DUV光刻機相同的光源技術，不過是國產的。
要知道，國內廠商科益虹源是是國內第一、全球第三的193nm ArF準分子鐳射器企業，其研發的光源技術是可以用於DUV光刻機裝置上的。
也就是說，上海微電子的全新一代光刻機在今年年底或明年年初下線後，國內廠商就能夠利用該光刻機組建國產28nm晶片生產線，甚至是更先進的晶片生產線。
而且，由於ASML目前就能夠向國內廠商出售DUV光刻機，而上海微電子的全新光刻機下線量產後，國內廠商屆時也就不需要向ASML購買DUV光刻機了。
果然被ASML總裁說中了
都知道，從2020年9月份以後，ASML就多次表態，要向國內廠商出售更多DUV光刻機等裝置。
進入2021年後，ASML總裁更是兩度發聲，其表示，限制ASML銷售光刻機等裝置，只會加速國內廠商突破光刻機相關技術，3年左右就會有國產先進光刻機。
最主要的是，國產裝置往往都是物美價廉，一旦國產先進光刻機出現後，ASML想在中國市場銷售更多裝置就難了。
如今看來，果然是被ASML總裁說中了。
因為國產先進光刻機將會在今年年底或者明年年初到來，屆時就不再需要ASML的DUV光刻機。
另外，就目前而言，雖然ASML的光刻機技術先進，但上海微電子的光刻機佔領了國內八成以上的市場，國產新一代光刻機下線後，ASML在國內的市場自然會進一步縮小。
畢竟，屆時國內有了國產的DUV光刻機，而ASML的EUV光刻機又無法出貨，國內廠商自然會採用國產裝置打造純國產的晶片生產線。
最主要的是，國內市場是全球最大的晶片市場，對光刻機也有巨大的需求，ASML的EUV光刻機又不能自由出貨。
如果DUV光刻機又被國產光刻機衝擊，ASML自然會與最大的市場失之交臂。屆時，或許就真如其總裁所說，15年後，ASML在國內市場就沒有份額了。
也正是因為如此，才說國產光刻機都被ASML總裁說中了。對此，你們怎麼看，歡迎留言、討論。
