胼胝體畸形
以完全或部分形式出現。胼胝體的形成是從前到後進行的，因此在部分發育不全中，前部通常得到保留，如圖25。1 A所示（儘管在這種情況下，僅存在一小部分胼胝體）。注意延伸至腦室邊緣的特徵性放射狀腦溝模式。在胼胝體難以觀察的新生兒中，放射狀腦回可能是發育不全的診斷重要資訊。圖中可以看的巨大枕大池（圖25。1 A）、Chiari 2型畸形和Dandy-Walker畸形伴胼胝體發育不全。平行的側腦室（圖25。1 B）是特徵性的，在冠狀點陣圖像上，由於（Probst的）白質束沿其中側壁分佈，側腦室可能呈新月形。
前腦無裂畸形
是一種前腦（前腦）不能發育為兩個半球的先天性畸形。本文展示了腦葉型、半腦葉型和無腦葉型，其程度從輕度到重度不等。無腦葉型（最嚴重）缺乏第三腦室、大腦鐮和半球間裂。融合或缺失的丘腦以及馬蹄形單腦室是特徵性表現。圖25。1 C顯示了一例半腦葉型病例，其中半球間裂在前方明顯缺失（儘管在後方存在），丘腦大部分融合。單腦室分為后角而不是前角。腦葉型最不嚴重，其特徵為無透明隔，少量額葉融合（下方），丘腦、腦室和胼胝體幾乎正常。
無腦回畸形
是指厚腦回和無腦回中所見的“光滑大腦”的大體MRI表現。圖25。1 D顯示了後者中可見的初級腦回形成。細胞稀疏區（黑色箭頭）-主要由軸突組成-在T2WI上可視為一個高訊號區，位於薄的低訊號皮質（代表成功遷移的神經元）和灰質深層（神經元遷移已被中斷）之間。在圖25。1 E中，在局灶性厚腦回病例中，平滑、增厚的灰質（白色箭頭）襯於腦回表面。本病例中的腦溝較淺，但比無腦回更突出。
多腦回畸形
可能看起來與巨腦回大體相似，但病理上皮質腦回太小太多。灰質分葉狀，稱為鵝卵石樣變（圖25。1 F，黑色箭頭），是MRI的一個特徵性發現。其位置（累及大腦）和外觀多種多樣。
腦裂畸形
是一種遷移性疾病，會導致大腦半球從皮質到腦室出現裂縫。圖25。1 G顯示了一個開放腦裂畸形病例，腦室和蛛網膜下腔之間有廣泛的交通。裂隙旁的灰質（白色箭頭）將異常定義為腦裂畸形，而不是腦穿通畸形或其他破壞性病變。
▲ 圖25。1
灰質異位
由腦室和腦表面之間的雙層皮質組成。在另一名患者中，圖25。1 H（黑色箭頭）顯示了兩個異位灰質區域最常見的位置—排列在側腦室周圍。此類病灶在所有序列上均表現出與灰質等強度，但不強化，最好在重T1WI上鑑別，其中灰質和白質的鑑別更好。
視隔發育不良
（暫無圖）是值得注意的最後一種先天性畸形，可導致失明、癲癇、下丘腦-垂體功能障礙和生長遲緩。透明隔發育不良或缺失，存在視神經發育不全。
