在大眾的認知中，生產7nm及以下製程的晶片必須要用到EUV光刻機，目前先進的EUV光刻機只有ASML一家可以量產，而造成這個情況出現的主要原因就是，EUV光刻機的製備過程極其複雜，從裡到外需要用到10萬多個零部件。關鍵是，這些零部件來自全球5000多家頂級供應商。
也正是因為擁有製備EUV光刻機裝置的能力，ASML才能常年立足於光刻機制造領域而不敗。據相關資料顯示，ASML在高階光刻機領域的市場份額高階80%以上，EUV光刻機更是有百分之百的市場份額。
然而，行業的領先並沒有給ASML帶來豐厚的利潤，反而變成了阻礙發展的“籬笆”。要知道，ASML生產的EUV光刻機是一件全球化的產物，其中有很多技術和零部件來自美國。而自從晶片規則被修改後，ASML就失去了出貨自由的權利，尤其是不能出貨給中企，讓ASML有苦難言。
慶幸的是，ASML生產的DUV光刻機不受限制，被允許自由出貨。今年第一季度，ASML就向中國市場出貨了23臺DUV光刻機。可萬萬沒想到，老美又再一次“加碼”，希望ASML收緊出貨範圍，涉及DUV光刻機，並徹底與大陸市場說“拜拜”。
儘管ASML方面表示，會持續向中國市場出貨DUV光刻機。但是在外界看來，ASML和美國就是在唱“雙簧戲”，一個唱白臉，一個唱紅臉，目的也很簡單，向大陸市場傾銷DUV光刻機等中低端光刻機，以此來擾亂國內相關企業的良性發展，比如上海微電子。
其實，自從中芯國際採購EUV光刻機無果後，全球半導體市場就迎來一場繞開EUV光刻機的浪潮，甚至連美國半導體企業也加入其中。首先是美光和Zyvex Labs這兩家美國企業，前者已經研發出可以繞過EUV光刻機的新技術——1-beta製造工藝，後者推出了高解析度的亞奈米級光刻機，也可以繞過EUV光刻機制造出0。768nm的高階晶片。
其次，作為全球第一大晶片代工廠，臺積電邀請美光、三星和SK海力士等19家巨頭組建了3D Fabric聯盟。據悉，該聯盟的主要目的就是降低對EUV光刻機的依賴，而美企超威半導體也已經發布了一款基於3D封裝技術製造的GPU晶片。
最後，日本佳能和鎧俠正在研發奈米壓印技術，最快到2025年就可以與ASML的EUV光刻技術一較高下。可以說，如果這項技術能夠取得突破，那麼有可能改變目前半導體行業的走向。
除此之外，中國第一條“多材料、多尺寸”的光子晶片生產線也計劃在2023年落地商用。再加上，華為先後申請的晶片疊加專利和超導量子晶片專利。關鍵是，這些新技術和裝置都在脫離ASML生產的EUV光刻機裝置。
值得一提的是，俄羅斯也正在計劃研發一種新型光刻機——X射線光刻機，只不過生產效率極低，不適合量產高階晶片。
也正是以上幾條重要訊息，外媒才說ASML也沒有料到，EUV光刻機正在被全球“拋棄”。因為事實證明，EUV光刻機並不是唯一可以製造7nm及以下製程晶片的途徑，無論是3D封裝技術也好，還是光子晶片、量子晶片也罷，再或者是奈米壓印技術、1-Beta工藝、X射線光刻機等，只要其中有一條路被走通，那麼ASML的好日子就算到頭了。對此，你們怎麼看？歡迎大家留言點贊分享。
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