眾所周知，目前
ASML是全球範圍內唯一一個可以造出高階EUV光刻機的企業。
2020年全球光刻機共銷出413臺，其中ASML出貨258臺，數量佔比62%；銷售金額更佔比高達91%。所以即使造價再昂貴、排隊時間再長，全球各個晶圓代工廠都等著它家的光刻機，當然這裡面也包括我國。
但由於被攔阻和隱形限制，即使ASML主觀上非常希望給中國開放訂單，客觀上都只能扣留住原本訂好的EUV光刻機不發貨
。暫時沒有一家國內公司能夠將ASML的EUV光刻機拿到手，確實無可奈何。
自己造EUV光刻機當然是一個解決辦法。但就憑我國光刻機產業的發展情況，這不現實。
那麼有沒有別的國家、別的企業能夠造出可替代ASML的光刻機呢？
答案是：有！
近日日本光刻機巨頭尼康（Nikon）宣佈了一個重大利好訊息：下一代
NSR-S636E ArF 浸入式光刻機
正在開發中，憑藉著優良和疊加精度和吞吐量，NSR-S636E可以實現增強型線上對準站（iAS），非常適合現在的尖端半導體制造。儘管NSR-S636E更多的引數未被曝光，但尼康的上一代光刻機S635E宣稱已經可以生產5nm工藝製程的晶片
。可見，最起碼NSR-S636E都能更為高效地製出至少5nm的晶片了。
這對於買不到ASML EUV光刻機的我國來說，不失為一種備用選擇。
在當前的半導體光刻機制造商中，實際上只僅存3家巨頭：
ASML、尼康和佳能
。光刻機產業即將進入第40個年頭，這些年裡其實最有先發優勢的是尼康，而非如今獨大的ASML。
有人開玩笑地精闢總結光刻機40年：
“尼康起高樓，ASML宴賓客，美國樓塌了”
。
光刻機，其實原名是“曝光機”，我們可以簡單地把它理解為“超超超超…超高”精度的照相機
，將設計好的電路經由光刻機投影在矽片上。這樣說，是不是就很容易理解為什麼尼康和佳能同時也是光刻機制造商？
上世紀80年代，憑藉著在照相領域的厚重積累，日本光刻機還在碾壓美國。
尼康在光刻機領域獨自為王、春風得意的時候，ASML才剛剛成立，處於蹣跚學步的階段。
連IBM、AMD、英特爾等大客戶當時搶著買尼康的光刻機，尼康佔據了超過50%的市佔率。
那麼ASML是如何成功翻身的呢？
上世紀90年代，光刻機技術卡在了193nm，如何更進一步成為了業界共同的難題。當時臺積電提出“浸入式光刻技術”，但遭到了尼康等大廠的拒絕。唯獨只有ASML決定一試。
就是這個轉折點，導致了ASML彎道超車，自此一路超越尼康等企業，成為了當之無愧的光刻機一哥。
儘管如此，尼康其實一直以來都沒有放棄過光刻機研發製造。更重要的是，
尼康曾公開表態，稱將“把重心放在中國企業身上”。
這種態度讓我們看到了曙光，ASML光刻機不再是唯一了，如果尼康願意和中國的企業達成合作關係，那麼我們的光刻機難題將能得到緩解。
當然最終的解決方案，還是要靠國產光刻機有所突破。
不過尼康光刻機提供了一個緩衝時間，讓我們能夠有緩衝地帶進行晶片國產化。中國是一個龐大的市場，
尼康有錢賺，我們有“芯”用，何樂而不為？
