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光刻照明勻光相干反射鏡

相關技術的EUV光刻機中採用強相干光源在進行光刻時，相干光經照明系統分割成的多個子光束具有固定的相位關係，當這些子光束投射在掩膜版上疊加時會形成固定的干涉圖樣，出現有明暗變化、光強不均勻的問題，因此，必須先進行去相干處理（或者採用避免相干影...