到底是造兩彈難，還是EUV光刻機難？
所以說，EUV光刻機是近代科技的產物，是集體智慧的結晶，但並不表示舉一國之力就不能做到，而兩彈由於涉及到國家戰略高度，重視度遠非光刻機所能比擬的...
140臺！ASML突然提速亮出了EUV光刻機的底牌，意味著什麼？
據悉，全球首款DUV光刻機和EUV光刻機都是ASML研發製造的，尤其是EUV光刻機，已經成為生產製造7nm以下晶片的必要裝置...
雪佛蘭全新電動車釋出！分體式前大燈，配電子按鍵換擋
全新Bolt EV車型採用了黑白雙色車身，前臉配備內底經過燻黑處理的分體式大燈，封閉式進氣格柵外側裝飾有黑色飾條，側面搭配平直且凌厲的雙腰線和懸浮式車頂...
“中國芯”剛提速，ASML就來賣光刻機，臺積電也來擴建了
需要指出的是，不管是ASML出口到大陸光刻機，還是臺積電在南京建置產能，在短期內都能緩解中國缺芯的局面，但與此同時可能也會對中國晶片自主研發帶來影響...
當初給多少錢都不賣，如今主動提出送來中國，中國：我們不需要了
原本這一工藝是由中芯國際研發的，但是一直都沒有成熟，而心動科技在此基礎之上進行了最佳化和改進，經過幾個多月來的測試，現在終於取得了不錯的成績，突破了瓶頸期，從這上我們看出的是國內廠商強強聯手共同突破難關的成績，同時也就說明了，如果想要獲得更...
半導體行業新方向被確認，更令人高興的是，中科院立功了
EUV困不住中國芯了綜合來看，石墨烯晶片作為現在的矽基半導體晶片材料的延續，將來的發展也大有可為，而在中科院等國內機構的不斷研發下，我們已經在這一領域取得了突破...
荷蘭ASML光刻機斷供中芯國際（SMIC）
”而此類言論在去年ASML和中芯國際達成合作時就曾出現過，當時就有傳言稱，“因受到瓦森納協議（《關於常規武器和兩用物品及技術出口控制的瓦森納協定》）的約束，荷蘭不能出售光刻機給中國企業”，而ASML給出的迴應是，“公司平等對待全球客戶，包括...
ASML新一代EUV光刻機正式確認，臺積電處境越來越尷尬
但隨著ASML將資源向對手英特爾傾斜，美國的晶片製造水平必然會水漲船高，而臺積電的市場地位以及影響力，必然會大打折扣...
解讀EUV光刻機專利（一）：中芯國際腦洞大開的光源設計
圖4：中芯國際設計的帶有環狀多噴嘴的旋轉EUV光源系統所以，大家就可以清晰地理解中芯國際的這個設計了：在EUV的鐳射頭周圍，安裝了一圈的n個噴嘴，工作時，轉盤按照鐳射脈衝的頻率一直轉動，鐳射依次激發1至n的噴嘴噴出來的液滴...
EUV光刻機結局已定，梁孟松再次發聲，事關中芯7nm
對中芯國際來說，全球缺芯的環境，是它在代工領域崛起的大好時機，自然不願意因為裝置問題而錯失良機，為此專門邀請來了技術大拿蔣尚義，尋求與ASML達成EUV的進口協議...
光刻機為什麼這麼重要？
美國在5G方面對中國的打壓，已經無所不用其極，前些時日，組織荷蘭阿斯麥（AMSL）公司向中國出口EUV光刻機，也就是說，美國已經在兩個方面對中國的5G進行打壓，一是透過扣押孟晚舟來威脅華為放棄5G技術或者交出相關資料...
關於EUV光刻機，ASML只能“坐等”，外媒：中國必將迎頭趕上
就拿ASML無非出售給中芯國際EUV光刻機來說，據訊息人士透露，美國前任“特不靠譜”時期，就要求“忠實的盟友”荷蘭阻止ASML向中國大陸出貨先進光刻機，如今現仍延續了此前的政策，否則美國將限制向荷蘭出貨重要的光刻機元件...
國產光刻機傳來好訊息，正在“全面開花”，核心元件取得技術突破
國內首臺高能同步輻射光源科研裝置落地，鏡鍍膜裝置投入使用，標誌著國產EUV光刻機在EUV光學鏡頭領域取得重大的突破...
靈魂深處的聲音！86歲中國院士：不解決卡脖子問題，我死不瞑目
華為晶片被美國製裁後，任正非就曾表示，我國晶片設計的能力已經達到了世界頂級的水準，掌握的晶片製程工藝也是當今世界上最先進的，之所以現在無法獨自制造出高階晶片，主要還是因為光刻機和化學材料被卡了脖子...
中國芯終見曙光？國產新一代光刻機呼之欲出，ASML果然沒說錯
甚至還能夠採用多重曝光技術生產7nm晶片，臺積電就曾經用阿斯麥的DUV光刻機實現了7奈米的量產，在EUV光刻機投用之後，由推出了7奈米的EUV工藝...
好訊息！國產14奈米晶片明年底可實現量產！光刻機仍需攻克？
當然想要實現國產晶片2025年達到75%自給率，最重要的就是攻克EUV光刻機，在有些人眼裡中國可能永遠無法攻克EUV光刻機技術難題，那麼我想說的是：別忘了，無論他有多先進都是人造的，不是神造的...
20210707 科技資訊早報
華為梅開二度，P50看得到也能買得到華為近期傳出了許多新的訊息，從新機到系統，均進行了超大幅度的升級和爆料...
在美國的制裁下，華為還能走多遠（2）
說了這麼多，還只是說了EUV光刻機，而晶片製造的其他裝置龍頭都在美國跟日本，像美國的應用材料（AMAT），泛林半導體，KLA，日本的東京電子，斯科半導體，愛德萬測試，中國距離這些公司差距也是相當的大...
1nm晶片技術取得突破，臺積電依靠荷蘭阿斯麥光刻機，再創高峰
三星、臺積電、英特爾在內的晶片巨頭，都需要從阿斯麥處購買EUV光刻機，才能夠量產高精度晶片...
關於EUV光刻機，中科院再立功，ASML的擔心或將應驗
目前國產晶片產業在中低端領域已站穩了腳跟，正在向高階領域發起衝擊，而且清華大學等高校的科研團隊在EUV領域也已取得了不小的研發成果，隨著時間的推進，ASML的擔憂或將成為現實...