積體電路技術——如何製造晶片(1)

1。概述

電子工業是現在高新技術的核心,它在人類的科技發展中發揮了巨大作用,電子工業已經成為成為當今世界發展最快的高新技術產業,在全世界各國國民經濟中起著舉足輕重的作用。當今的電子技術離不開積體電路,

積體電路是電子工業的基石,積體電路是20世紀最偉大的發明之一

積體電路技術——如何製造晶片(1)

積體電路是一種微型電子器件或部件。它是採用一定的工藝把一個電路中所需的元件及佈線互連一起,並製作在一小塊基片上,然後封裝在一個管殼內,其中所有元件在結構上已組成一個整體。

積體電路包括半導體積體電路和混合積體電路

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半導體積體電路

是利用半導體技術將電路中的電阻、電容、電感、電晶體等元件及佈線,在同一塊半導體材料製造完成,形成一個完整的、有獨立功能的電路系統。

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混合積體電路

是將

多個不同的半導體積體電路和分立電子元件

透過微細加工技術,將它們固化到同一個基板(陶瓷材料或半導體材料)上,用互連的方式將它們整合為一個完整的、有獨立功能的電路系統。

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本文主要介紹

半導體積體電路

相關知識和技術。

半導體積體電路分類

積體電路按照功能可以分為:

數字積體電路、模擬積體電路和混合訊號積體電路

數字積體電路是指只處理數字訊號的一類電路,也稱為邏輯電路

。這類產品主要包括處微理器(MPU)、微控制器(MCU)、儲存器(RAM、ROM)、介面電路等。數字積體電路通常是由基本的邏輯閘電路單元構成。

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模擬積體電路是指完成對模擬訊號進行放大、轉換、調製、運算等功能的一類電路

。由於早期這類電路主要用於訊號線性處理,所以又稱為線性電路。模擬積體電路包括放大器、模擬乘法器、模擬開關和電源電路等。

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混合訊號積體電路是可以同時處理數字訊號和模擬訊號的電路

。混合訊號積體電路主要包括:A/D轉換器(模數轉換器)、D/A轉換器(數模轉換器)。

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2。積體電路發展

為什麼會發明積體電路?它能給我們帶來什麼?

我們透過半導體積體電路的發展歷史,來解開半導體積體電路這個

發明創造背後的驅動力

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驅動力

1946年,ENIAC(Electronic Numerical Integrator And Computer即電子數字積分計算機)在美國宣告誕生,ENIAC是繼ABC(阿塔納索夫-貝瑞計算機)之後的第二臺電子計算機,美國國防部用它來計算彈道,ENIAC每秒鐘可以運算5000次。

ENIAC是一個龐然大物!ENIAC總長約30米,高約4米,厚約0.9米,佔地約167平米、重達30噸

!ENIAC內部電路使用了約18000只電子管、7200只電阻、10000只電容、50萬條線,功率約150千瓦 。

電子計算機提供了無所倫比的計算能力

,但是這種計算機有幾個突出問題:

體積大、功耗大

如果能把計算機內部的電子元件和連線整合在一小塊載體上

,這就解決了體積和功耗問題!半導體積體電路誕生和發展的

內在驅動力就在於此

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發展

1947年12月23日美國貝爾實驗室

的威廉·肖克利(William Shockley)和約翰·巴丁(John Bardeen)發明了點觸式三極體,這是

世界上第一隻晶體三極體

,它標誌著電子技術從電子管時代進入電晶體時代邁出了第一步!

而在此之前計算機電路只能使用體積大、功耗大、結構不穩定的電子管。晶

體管具有電子管的主要功能,同時解決了體積大、功耗大、結構不穩定等問題

。在電晶體發明後,1948年肖克利在貝爾實驗室內部刊物釋出了《半導體中的P-N結和P-N結型電晶體的理論》,1950年11月肖克利發表《半導體中的電子和空穴》,

奠定了PN接面和麵接型電晶體的基本理論

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1954年

,德州儀器以25000美元從西部電子公司那裡購買了生產電子電晶體的專利,並在同年研製出了

第一個商用的矽電晶體905 型

,德州儀器成為當時唯一一個批次生產矽管的公司。

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1958年

,德州儀器的基爾比突發奇想:很多器件組成的極小的微型電路是可以在一塊晶片上製作出來的。1958年9月12日,基爾比把這個想法變成了現實,

研製出世界上第一塊積體電路(這塊電路實際上是僅包含12個元件的積體電路)

,並憑藉這項發明,2000年基爾比獲得了諾貝爾物理學獎。

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1959年

,當時在仙童公司工作的鮑勃·諾伊斯(後來快捷半導體公司,英特爾創始人),

創造了掩膜版曝光刻蝕方法用來生產積體電路

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1964年

,IBM公司成年僅四十歲的吉恩·阿姆達爾擔任主設計師,歷時四年研發的IBM360計算機問世,IBM360是用積體電路構建了世界上第一臺積體電路的計算機,也稱為第三代計算機。這個計算機有大、中、小共6個型號,涵蓋了科學計算和事務處理兩方面的應用,能夠360度全方位使用,因此它起名為IBM360。這臺計算機與之前的計算機相比最大的特徵,就是從軍用為主轉向了民用為主,

它代表著計算機從工商界到科學界的全方位應用

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1970年

,Intel公司的科學家泰德·霍夫(Ted Hoff)主持設計了

世界上第一款微處理器——英特爾4004

。Intel 4004片內集成了2250個電晶體,電晶體之間的距離是10微米,能夠處理4bit的資料,每秒運算6萬次,支援8位指令集及12位地址集。

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1978年6月

Intel推出了8086微處理器,8086是x86架構微處理器的鼻祖

,後續推出的各種微處理器均保持與之相容。8086工作主頻為4。77MHz,採用16位暫存器、16位資料匯流排。8086微處理器使用+5V電源,40條引腳雙列直插式封裝,有16根資料線和20根地址線,對記憶體空間實行分段管理,實現對1MB空間的定址,採用並行流水線工作方式。8086是一款劃時代的微處理器。

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1993 年

Intel公司釋出了Pentium系列微處理器80586

,Pentium系列微處理器與以前的Intel公司處理器完全相容。值得一提的是奔騰處理器中有兩條資料流水線,可以同時執行兩條指令,Intel公司把這種同時執行兩條指令的能力稱為超標量技術。第1代奔騰處理器主頻有60MHz和66MHz。

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2018年8月31日

華為在德國柏林IFA展會上釋出麒麟980晶片

。麒麟980晶片是華為海思推出的基於ARM的64位系統晶片,

它是世界上第一枚採用臺積電7nm工藝製造的商用手機SoC晶片組

(4

A76+4

A55的八核心晶片),最高主頻高達2。8GHz。麒麟980集成了八個CPU核心、十個GPU核心,並有雙ISP、i8感測器處理器、安全引擎,還支援UFS 2。Hi-Fi音訊、4K影片。

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縱觀半導體積體電路的發展可以總結出兩個發展趨勢:

1、體積越來越小。2、功能越來越複雜。

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3。積體電路材料

3。1半導體材料

半導體材料是製造半導體積體電路的主要材料

,目前積體電路中採用的半導體材料有

元素半導體

化合物半導體材料

兩類。元素半導體主要包括鍺(Ge)和矽(Si)。化合物半導體材料包括碳化矽(SiC)、砷化鎵(GaAs)、銦鎵砷(InGaAs)等。

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3。2半導體材料特性

半導體積體電路主要是採用半導體材料製造,之所以可以採用半導體材料製造出極其複雜的半導體積體電路,是因為半導體有一系列特點:

導電特性,摻雜特性,溫度特性、光電特性、壓力特性等

導電特性

物質的導電能力的強弱用其導電率表示,導電率的倒數稱為電阻率。根據電阻率的大小可以將自然界中的物質分為

導體、半導體和絕緣體三類

,其中半導體的電阻率介於導體和絕緣體之間,如下圖所示:

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摻雜特性

在半導體材料中加入微量的其他元素,稱為摻進雜質(簡稱摻雜)

,可以在很大範圍內改變半導體的導電能力。以半導體材料矽為例,在室溫下純矽的電阻率為230000Ω*cm,但是隻要參入0。000001%(千萬分之一)的磷元素,此時含有雜質的矽材料的導電能力將提高200000000%(20萬倍)!

由此可見摻雜元素的含量雖然極小,但是對半導體的導電能力起了決定性作用

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溫度特性

半導體有一個重要特性,隨溫度的上升半導體中載流子濃度增加、電阻降低

。利用半導體的這種效應可以製成半導體熱敏電阻。隨著半導體積體電路技術的不斷髮展,半導體整合式溫度感測器越來越受到人們的關注。

半導體整合式溫度感測器有著更小的尺寸,容易進行系統整合等優勢

。這種整合溫度感測器把包括溫度感知器件、adc電路、和數位電路整合在一起,它們可以輸出數字訊號,能夠方便的在微處理器中進行處理。半導體整合溫度感測器主要採用bjt作為溫度測量器件,下圖是半導體溫度感測器LM35的功能框圖:

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光電特性

半導體材料在受到光照後導電能力可以提高几百倍

,利用半導體的這種效應可以製成半導體光電感測器:

光電二極體(Photo-Diode)

。光電二極體是由一個PN接面組成的半導體器件,具有單向導電特性。光電二極體是在反向電壓作用之下工作的,在一般照度的光線照射下,所產生的電流叫光電流。如果在外電路上接上負載,負載上就獲得了電訊號,而且這個電訊號隨著光的變化而相應變化。光電感測器如下圖:

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壓力特性

半導體受到應力作用時,由於應力引起能帶的變化使其電阻率發生變化,這種物理現象稱為壓阻效應

。利用半導體的這種效應可以製成半導體壓力感測器,這種壓力感測器結構簡單可靠,沒有相對運動部件,感測器中的彈性元件和壓力敏感元件合為一體,提高了感測器的效能。下圖是半導體壓力感測器LPS22HH的功能框圖:

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3。3本證半導體和雜質半導體

本徵半導體

沒有任何雜質和缺陷的純淨半導體材料稱為本徵半導體

,這種半導體的導電特徵取決於材料本身的固有特徵。

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雜質半導體

積體電路中使用的半導體材料並不是本證半導體

,而是使用雜質半導體。

在本證半導體中摻入一定量的其他元素,這種摻入雜質的半導體稱為雜質半導體,摻入的這些雜質稱為雜質原子,摻入雜質原子的過程稱為摻雜

。在純淨的半導體材料中摻入雜質後,半導體的導電性將發生很大變化。

N型半導體

在半導體材料中摻入微量三價元素磷(P)、砷(Sb)、銻(As)等元素後,半導體材料中就會產生很多帶負電的電子,使半導體中自由電子的濃度大大高於空穴濃度。

這類雜質提供了帶負電(Negative)的電子載流子,故稱它們為N型雜質,這種半導體稱為N型半導體

。對於N型半導體材料而言,總的正電荷等於負電荷數目,材料整體為電中性。

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P型半導體

在半導體材料中摻入微量三價元素硼(B)、鋁(Ga)、銦(In),使半導體中空穴的濃度大大高於自由電子濃度。

這類雜質提供了帶正電(Positive)的空穴載流子,故稱它們為P型雜質,這種半導體稱為P型半導體

。對於P型半導體材料而言,總的正電荷等於負電荷數目,材料整體為電中性。

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