2002年，晶片產業發展進入瓶頸期。
最先進的光刻機，光源波長卡在193nm，晶片製程縮小至65nm。
而後，摩爾定律失效了。
臺積電光刻技術研發的負責人，祖籍潮汕，出生越南，畢業於美國，曾在IBM任職了22年，叫林本堅，提出了一個天才構想：
人在岸邊，很難看清楚魚的位置，因為光在水裡會產生折射。同理，
如果在現有的“乾式”光刻機裡面加水，透過折射，不就能縮短波長了嗎？
臺積電在IC設計，光刻技術等方面都不弱。但
在張忠謀的經營理念中，只有純做代工，才能真正打消客戶的顧慮。
客戶把設計圖，給英特爾，給三星，都怕他們抄你作業，但給臺積電，卻可以非常放心，我技術不比你差，但我只做代工，這是臺積電的經營之道。郭臺銘的鴻海集團，也深諳此道。
也正因為此，臺積電不會生產光刻機。
林本堅只能另尋他人，其輾轉於德日韓多國，不僅被巨頭尼康各種打壓，還被客戶無情拒絕，甚至，有客戶當面提出質疑：
“在機器里加水，你是瘋了吧？”
無奈之下，張忠謀只好把林本堅推薦給飛利浦。飛利浦在荷蘭有個沒出息的實驗室，叫ASML。林在ASML的小實驗室裡，不斷嘗試，最終獲得了成功。
小公司ASML靠“浸潤式光刻機”一舉擊潰霸主尼康，拿下全球70%的市場份額，從此一家獨大。
在相當長一段時間裡，
ASML的“浸潤式光刻機”，是DUV（深紫外線光刻機），後來才發展出來了EUV（極紫外線光刻機）。
DUV主要使用的是光的折射原理，而EUV使用的光的反射原理。理論上，EUV的極限只能做到25nm，而EUV目前已經能做到1nm。EUV有些核心技術在美國和日本手上，有些工藝，就算是現在的ASML，也無法突破。
故事的重點來了！
當年和林本堅一起研發“浸潤式光刻機”的，還有臺積電的其他專家，他們有些人，如今就任職於大陸晶片廠。
這些專家提出了另一個天才的想法：
如果把40nm製程的DUV，做多次折射，就可能做出7nm製程。
中芯突破7nm的傳聞，就是這麼來的。
老美接收到情報後，抓急了，對荷蘭說：“你們應該禁止ASML向中國出口DUV。”
ASML回懟：“我給他們出口的是40nm的DUV，符合美國規定，能不能做出7nm是他們的事，關我什麼？”
印尼的重要峰會，中荷會面。
會面的隔天，荷蘭外貿與發展合作大臣施賴納馬赫爾在接受媒體採訪時表示：在向中國出售晶片裝置的問題上，荷蘭將捍衛本國的經濟利益。
和德國的汽車廠一樣，荷蘭的ASML有1/3的市場，依賴於中國，唇亡齒寒。
丘吉爾說：“沒有永遠的朋友，只有永遠的利益。”
在外交場，價值觀，世界觀，最終都沒生意來得實在。
1。晶片，絕不是東搞搞光刻機，西搞搞工藝，那麼簡單。
人才才是關鍵，華人專家，歐美科學家，如何吸引他們？
2.經濟保持快速發展，是對抗美國封鎖，最重要的武器。
再補充一點：
昨晚，我參加某智庫的內部會議，與會的一位科學家，是原發改委科技司的司長，他說：
中國真正的安全問題，不是晶片被卡，而是高階儀表儀器被卡。
中國創新能力不高，主要因為原始創新能力不足，原始創新能力不足，有個原因，是因為科研裝置，高階儀表儀器高度依賴進口，人家給什麼，我們才能研究什麼。
科研，才是未來！
