包括英特爾、臺積電、三星、SK海力士等半導體四巨頭今年擴大極紫外光產能建置及量產規模，包括向艾司摩爾（ASML）採購最新0。33數值孔徑EUV曝光機，每小時曝光產量可提升至160片，並與ASML合作開發0。55高數值孔徑次世代EUV技術，預計2025年進入量產，以維持摩爾定律有效性。
隨著7奈米及5奈米等先進邏輯製程、1a奈米DRAM製程今年匯入EUV微影技術並擴大量產投片規模，四大半導體廠已將ASML今、明兩年EUV曝光機產能預訂一空。眾人看好EUV裝置及材料供應鏈強勁需求，包括家登、帆宣、公準等EUV概念股接單旺到明年。
臺積電及三星在2019年推出採用EUV技術7納米制程，2020年採用更多EUV光罩層的5奈米亦進入量產階段，加上三星領先同業率先以EUV量產1a奈米DRAM，推升EUV生態系統進入成長爆發階段。根據ASML統計，2019年初採用EUV曝光晶圓累計達400萬片，但去年底晶圓累計已達2600萬片規模，2021年將維持高速成長。
市調機構IC Knowledge LLC指出，ASML自2019年第四季開始出貨的NXE：3400C曝光機，在每平方公分30毫焦耳（30mj/cm2）功率下，每小時曝光產量約135-145片，在邏輯製程上可支援5奈米量產及3奈米初期生產。隨著臺積電及三星明年開始量產3奈米，ASML今年下半年推出升級版NXE： 3600D曝光機，每小時曝光產量提升至160片，可符合3納米制程量產需求。
ASML將於2022～2023年推出妥善率達95％的新一代0。33 NA的EUV曝光機，屆時每小時曝光產量可再提升至220片以上。同時，ASML將於2022年下半年推出次世代支援0。55 High-NA的EUV曝光機EXE：5000，每小時曝光產量達150片，預計2025年推出首款High-NA量產型曝光機EXE：5200，每小時曝光產量將超過220片。
ASML今年產能可支援45-50臺EUV曝光機出貨，其中八成已被臺積電及三星包下。隨著半導體四巨頭擴大EUV產能建置並提高量產規模，EUV裝置及材料供應商直接受惠，家登已拿下全球九成EUV光罩盒訂單並逐季放量出貨，帆宣及公司取得更多EUV裝置模組及精密零元件代工訂單，訂單能見度已看到明年。（校對：華強商城）
