眾所周知，在晶片製造過程中，最重要的一種裝置就是光刻機，它佔晶片製造裝置成本的20-30%，佔所有制造工時中的30%。
最重要的是，目前光刻機被一家公司壟斷著，特別是高階的EUV光刻機，這家公司就是ASML，荷蘭的一家公司。
先上一張圖，簡單的來介紹下ASML在光刻機上究竟有多強大，估計大家看圖就明白了。這張圖就是當前全球的主要光刻機技術圖。
目前ASML覆蓋了所有的光刻機層次，全部能生產，而超高階的7nm、5nm使用的光刻機，只有ASML能生產，而高階的7-28nm的，只有ASML、尼康能生產，至於佳能、上海微電子還處於90nm的節點，很明顯相差很多的。
而為了買到ASML的光刻機，像臺積電、三星、intel等都投資ASML，是ASML的股東，所以ASML的光刻機，會優先供應給臺積電、三星、intel這些企業，至於其它的企業，想買到ASML的光刻機，那得等ASML有多餘的才行。
當然更重要的是，ASML的光刻機，並不是想買就能買的，美國也在其中進行干預，透過瓦納森協議，控制ASML的出貨，不是ASML想賣給誰就賣給誰的，有錢也不一定能買到。
比如中國大陸的客戶，想要買EUV光刻機，目前就不太可能。ASML想賣也賣不了，美國不允許。
而近日，ASML 的中國區總裁沈波在接受採訪時表示，公司對向中國出口積體電路光刻機持開放態度，目前只有 EUV 光刻機無法對中國客戶（大陸）提供，其他產品（DUV）都可以正常發貨。
EUV光刻機和DUV光刻機有什麼不同？其實是按照曝光源的不同進行劃分的，EUV型（極深紫外線）、DUV型（深紫外線）。
如果從晶片工藝來看，DUV基本上只能做到25nm，透過多重曝光，最多能夠實現7nm，但良率就無法保證了，而EUV能滿足10nm以下的晶圓製造需求。
可見，如果我們想要製造10nm及以下的晶片，真的還必須努力發展自己的光刻機，別指望ASML了，所謂的開放，其實更多是指成熟工藝，並不是先進工藝。
