路漫漫其修遠兮，吾將上下而求索，很多年前這句話就給我留下了深刻印象，時至今日我都以它為座右銘。所以當第一次聽聞華為受到區別化對待的時候，我就想到了這句話，時光荏苒，如今距離晶片禁令也過去了很長一段時間，我們仍然在期待著什麼……
華為的困境
6月2日鴻蒙釋出會的順利舉行，讓科技圈沸騰，也引發了社交媒體的熱議。鴻蒙的出現的確很讓人激動，
它不僅緩解了華為的燃眉之急，照亮了前方的路，而且讓國產廠商完全無需顧及日後的發展會遭到系統上“卡脖子”的問題。
晶片和系統是如今智慧手機最核心的兩個部分
，鴻蒙在系統端有望打破安卓、IOS壟斷的強勢表現，也讓人對其晶片端充滿了信心。但殘酷的現實我們還是不得不面對，
由於缺少EUV光刻機，我們暫時還造不出“高階芯”，由於供貨許可的限制，華為也沒有辦法獲得代工廠加工的“高階芯”。
所以過去一段時間，華為對於庫存“高階芯”的使用，一直非常謹慎。為此不僅砍去了榮耀相關業務，導致自己在
中低端市場喪失了話語權，而且限制了高階系列的供貨量，導致在該市場的影響力也一降再降。
從當初有機會登頂全球手機市場，到今年第一季度淪為第七，華為的遭遇除了讓人扼腕痛惜，更說明了一個嚴峻的問題，那就是晶片國產化已經迫在眉睫。
國內晶片產業現狀
我們都知道，晶片的誕生過程非常冗雜，得經過很多道工序，單單一個光刻機就有三大核心技術。
所以只是在晶片自主設計能力上睥睨天下的華為，還是不得不受到限制，而國內目前的製造水平也沒有辦法給予華為更多支援。
國內目前在該領域的領頭羊中芯國際，也只是達到了量產14nm以及N+1工藝的晶片，並且採用的也是米國技術，
換句話說，用著ASML的光刻機，想要擺脫霸道的米國顯然是不現實的，但以目前的情況不用又不行。
中芯國際如今很長一段時間沒有訊息傳出，雖然大家都說這就是最好的訊息，但我們都清楚其很有可能是在EUV光刻機上遇到了阻礙，才會嚴重延緩了研發攻克的速度。
好在各界都在為此不懈努力，清華學院輸送人才，中科院試圖彎道超車，上海微電子也在加速國產光刻機裝置的研發工作。
國產華為芯何時到來？
自被打壓以來，華為也並沒有束手就擒，不僅持續對海思的投入，不讓設計能力被對方拉開差距。
在晶片領域，也在佈局整個產業鏈，但終究華為在該領域算是個後來者，想要看到國產華為芯，還得仰仗國內眾多深耕該領域的企業，比如上海微電子。
讓人慶幸的是，根據外媒報道，華為芯終見曙光，因為上海微電子將會推出新一代國產光刻機。
據悉該裝置相當於ASML的DUV光刻機，也是沉浸式的的，而且下線量產時間也有了訊息，就在今年的年底，最遲也是在明年的年初。
除此之外，該新一代光刻機的光源技術也和ASML DUV光刻機一致，也就是說它也能完成生產製造28nm-10之間晶片的工作。更重要的是，
DUV光刻機曾在臺積電的手上，利用過程曝光，完成過製造7nm晶片的壯舉，反言之上海微電子的新一代光刻機的裝置至少也滿足了基本要求。
院士的表態讓人心安
既然上海微電子的新一代光刻機裝置呼之欲出，那華為國產芯還需要等上多久呢？
對此，院士的表態讓人心安，他給出了相應的時間表，大概是在一到兩年的時間。換種方式理解，當此次的新一代光刻機下線後，
大概一到兩年的時間就可以組建純國產的晶片生產線，屆時也就能看到國產華為芯。
不過我們還是得有一個清醒的認知，這並不意味著短期之內國產華為“高階芯”就能面世，裝置上的實現國產化只是突破的第一步，況且目前製造“高階芯”的EUV光刻機和DUV光刻機還是有很大區別的。
但不管怎樣，邁出了第一步，才有接下來的每一步，眾志成城之下，何愁大事不成？相信14nm乃至10nm以下的國產晶片生產線，也不會等上太久，您說呢？
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