《積體電路先進製造工藝技術》課程是工業和資訊化部教育與考試中心組織開展的“工業和資訊化職業技能提升工程”入選培訓專案。
北方工業大學聯合中科院微電子所，以02專項參與單位專家為主的一線講師團，工信部人才中心備案，米格實驗室支撐運營和後續服務，開通綠色報名通道，歡迎大家參與！
課程亮點：
1。行業內一線的FAB資深工程師
2。系統而實戰的講解工藝各個環節
3。課後學員班級群資源共享與整合
4。工信部人才中心發放高含金量的證書
5。可報名全部或者部分課程
6。米格實驗室測試優惠福利。
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部分講師介紹
積體電路製造技術綜述
，講師，
王琪
，碩士，清華經管學院 MBA，現任中科院微電子所高階 工程師，曾擔任中芯國際研發中心副總監。科研主要研究方向：面向工業界 2 奈米技術節點 的圍柵奈米線（片）器件與工藝研發，主要成就等：主持研發了工業界從 65 奈米到 28 奈米 節點的多項國家重大 02 專項課題的研發工作，曾連續
17 年
在工業界（中芯國際）從事最先 進節點的積體電路工藝研發，獲得過北京市科學技術獎二等獎。
PDK 建模與版圖設計
，講師，
趙劼
，碩士，中國科學院微電子研究所先導中心，高階工程師。作為主要人員參與國家重大科技 01 專項/02 專項等多個國家任務，科學院任務、地方政府 專案和其它任務課題等多個課題研究。主要研究方向為 PDK 和標準單元庫開發，IP 設計驗 證，非易失性儲存器產品工藝整合和研發測試，具有
13 年
工作經驗，申請專利 30 餘項。
光刻機原理與工藝
，講師，
賀曉彬
，碩士，中科院微電子所先導工藝研發中心，高階工程師。長期從事光刻工藝以及電子束工藝研發，具有
13 年光刻工作經驗
。曾就職於中芯國際，具 有豐富的十二寸工藝經驗。在微電子所作為主要人員參加了國家重大科技 02 專項從22nm、 14/16nm、7/5nm 等多個課題研究，負責光刻以及電子束模組工藝開發。
介質刻蝕機原理與工藝
，講師，
周娜
，博士，中科院微電子所先導工藝研發中心，高階工程 師。長期從事半導體先進刻蝕工藝研發，曾工作於北方華創公司，具有近
10 年
工藝研發經 驗。曾先後主持和參與包括北京市實培專案、中科院、國家自然科學基金專案、國家重點研 發計劃課題、省級重點研發計劃以及企業橫向專案等在內的 10 多個科研專案以及多個感測 器產業化專案。發表國內外期刊論文 20 餘篇；申請發明專利 70 餘項，已授權專利 20 餘項。
金屬刻蝕機原理與工藝
，講師，
李俊傑
，博士，中科院微電子所先導工藝研發中心，高階工 程師。長期從事等離子刻蝕工藝研發，具有
14 年
等離子刻蝕研發經驗。曾就職於北方華創， 具有豐富的 12 英寸等離子刻蝕裝置及工藝研發經驗。在微電子所，作為主要人員參加了國 家重大科技 02 專項從 22nm、14/16nm、7/5nm、3/1nm 等多個課題研究，負責攻關 3-1nm 環 柵（GAA）奈米線和奈米片關鍵工藝模組的研發，發表 SCI 論文 30 餘篇，申請專利 100 餘項。
離子機原理與工藝
，講師，
劉金彪
，碩士，中科院微電子所先導工藝研發中心，高階工程師。目前主要從事離子注入及鐳射退火相關工藝研發，2010 年加入微電子所，作為研發骨幹參 與了國家 02 重大科技專項 中 22nm，16/14nm，7/5 nm 等多個科研專案的研究工作，
具有 16 年
相關工作經驗。
擴散裝置原理與工藝
，講師，
熊文娟
，碩士，中科院微電子所先導工藝研發中心，高階工程 師。長期從事高溫擴散、快速熱退火、低壓化學氣相澱積工藝研發，有
17 年
擴散工作經驗。曾就職於華潤微電子，有豐富的 8 英寸工藝經驗。在微電子所作為主要人員參加了國家重大 科技 02 專項從 22nm、14/16nm、7/5nm 等多個課題研究，負責擴散模組工藝開發。
射沉積裝置與工藝
，講師，
高建峰
，碩士，中科院微電子所先導工藝研發中心，高階工程 師，長期從事積體電路薄膜工藝的研發，
有 16 年
的薄膜工藝開發經驗。曾就職於中芯國際， 參與了國內首條 12 寸銅製程互連線的通線工作，經歷了從 0。13um， 90nm， 65/55nm 等多個 邏輯技術節點的工藝開發。2012 年入職中國科學院微電子研究所，主要從事先進 IC 製造中 新材料和新結構器件的工藝研發，作為核心骨幹成員參加中科院微電子所承擔的國家“02科技重大專項”，重點研發計劃，中科院先導 A，先導 C 等多項課題的研發工作。此外，主 持承擔了多項企業重大橫向研發專案。期間合作發表 SCI 論文 50 餘篇，授權專利 10 餘項。
化學氣相薄膜裝置與工藝
，講師，
白國斌
，中科院微電子所先導工藝研發中心，高階工程師。長期從事薄膜工藝（特別是 CVD 方面）研發，具有
20 年
相關工作經驗。曾就職於首鋼微電 子、華潤上華，有豐富的 4&6&8inch 積體電路工藝經驗。在微電子所作為主要人員參加了國 家重大科技 02 專項從 22nm、14/16nm、7/5nm 等多個課題研究，負責薄膜工藝開發。
原子層薄膜沉積裝置原理與工藝
，講師，
項金娟
，博士，中國科學院微電子研究所高頻高 壓器件與整合研發中心副研究員，中科院青促會會員。
近十年
來，一直從事積體電路先導工 藝的單原子層沉積（ALD）相關工藝研究。全程參與了 02 重大專項 22 奈米、16-14 奈米、 7-5 奈米等先導工藝專案的研發。開發出高質量高 k 柵介質、金屬柵材料，成功應用於 22nm CMOS 器件；開發出基於熱型 ALD 技術的 N 型金屬 TiAlC 薄膜，成功應用於體矽 FinFET 及 GAA 器件。以一作/通訊作者在期刊及國際會議上發表論文 28 篇，擔任 ALD 頂級國際會議技 術委員會委員
外延裝置原理與工藝
，講師，
王桂磊
，博士，北京超弦儲存器研究院研究員。曾任中國科學 院微電子研究所先導工藝研發中心研究員，中國科學院青年創新促進會優秀會員。自 2005 年以來一直從事積體電路 CMOS 先導技術的研究，具有
16 年
研發經驗。迄今在國際會議和重 要學術 SCI 期刊上發表論文 90 餘篇，第一作者撰寫 SiGe 外延英文專著 1 部，完成中國發明 專利申請 100 餘項，美國專利授權 12 項。2018 年歐洲材料研究會（E-MRS）春季會議技 術委員會（TPC）委員。擔任 Nanomaterials 客座編輯，同時擔任 IEEE TED，JMSE ，Journal of Crystal Growth 等期刊審稿人。
清洗、化學機械平坦化裝置原理與工藝
，講師，
楊濤
，博士，中科院微電子所先導工藝研 發中心，正高階工程師。主要從事積體電路先進製造工藝研發，具有
14 年
研發經驗。2007-2009 年任職中芯國際邏輯技術發展中心，參與 65 奈米與 45 奈米工藝開發；2009 年入 職微電子研究所，先後參與了國家重大科技 02 專項從 22 奈米、16/14 奈米到 7/5 奈米的多 個先導技術課題研究。主持中科院與北京市重大研發專案多項。發表論文 10 餘篇，申請發 明專利 60 餘項。
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