光刻機是生產晶片不可或缺的裝置，尤其是先進製程的晶片，更是需要EUV等先進的光刻機裝置。而我們無法生產出7奈米和5奈米晶片，也正是因為缺少EUV光刻機，雖然我們很早就向ASML訂購了一臺，但由於西方修改規則，導致如今依舊沒能到貨。在這樣的情況下，自研光刻機也就成了我們必須要走的路。
據瞭解，上海微電子目前的光刻機能夠生產28奈米到10奈米的晶片，雖然與ASML仍有不小的差距，但上海微電子的裝置已經佔據著國內八成以上的市場。如今，國產光刻機又傳來了好訊息，據訊息稱，上海微電子全新一代光刻機將採用與西方DUV光刻機相同的光源技術，不過是國產的。這也意味著，上海微電子新一代光刻機量產之後，我們就不需要再向ASML進口DUV光刻機了，我們離國產替代又近了一步！
ASML曾表態道：限制ASML出售光刻機等裝置，只會加速中國半導體的發展，3年時間它們將造出所有東西。如今看來，果然被ASML說中了，因為新一代的國產光刻機，將在今年年底或明年年初實現量產，到時我們就不再需要ASML的DUV光刻機，而ASML在國內的市場份額將近一步縮小。
最為主要的是，國內市場是全球最大的晶片市場，對光刻機也有巨大的需求，ASML的EUV光刻機不能自由出貨。如果DUV光刻機又被國產光刻機衝擊，屆時，ASML或真的會失去國內的市場。如今，我們不僅有了國產系統，還有了國產光刻機，未來我們亦會有國產晶片，到時國產就是真的崛起了！
