華為可能會大放異彩?國產28nm晶片今年可以量產,明年14nm量產
國產晶片製造技術和量產裝置的研發相繼取得巨大突破晶片製造行業大概可以分為四大流程,分別是晶圓製造,曝光、刻蝕、清洗,國產晶片製造裝置在2021年相繼迎來突破,首先是晶圓,華為首家晶圓製造廠已經落地武漢了,中芯國際的晶圓廠今年兩次擴產...
國產晶片製造技術和量產裝置的研發相繼取得巨大突破晶片製造行業大概可以分為四大流程,分別是晶圓製造,曝光、刻蝕、清洗,國產晶片製造裝置在2021年相繼迎來突破,首先是晶圓,華為首家晶圓製造廠已經落地武漢了,中芯國際的晶圓廠今年兩次擴產...
高階光刻機由很多的零器件組裝而成,其數量高達數十萬多個,彙集了全球各大頂尖技術,到目前為止沒有任何一個國家能掌握所有的技術,唯一可以製造高階光刻機的阿斯麥起到的更多是組裝作用,大部分的頂級器件都是從全球各大之知名企業中購買來的...
事實上,無法向中國出口EUV光刻機,這也是ASML不想看到的局面,因為他們深知,中國是世界上人口最多的國家之一,在晶片領域也擁有龐大的市場,這是一塊大蛋糕...
而且自從中國中科院宣佈加入光刻機研發之後,荷蘭ASML就開始慌了...
不過這次我們國家從荷蘭的ASML集團那買了一些光刻機,令荷蘭人納悶的是,我們國家購買光刻機卻並不是用來生產晶片...
目前中國真正落後的是工業軟體的領域,比起高階晶片的落後,工業軟體更值得重視和加大研發投入...
英國支援華為,其實還有一方面原因,眾所周知,荷蘭ASML已經將整個光刻機領域達到壟斷狀態,大多數國家晶片行業都被卡脖子,包括英國在內,這樣看來,華為和英國也算是一條船上的螞蚱...
前段時間,長春光機所才突破了突破了光刻機核心部件“光學投影物鏡”製造關鍵技術,還掌握了EUV多層膜製備的相關技術...
35微米晶片的生產,第三代KrF光刻機在350-180奈米,第四代ArF光刻機是目前使用最廣的光刻機,有乾式和浸沒式兩種技術路線,繼續演進中,溼法可以實現22納米制程,透過技術提升可以實現7奈米...
他們著急搶佔市場是可以理解了,畢竟中國是全球最大的市場,一旦中國可以自主研發光刻機,ASML將徹底失去這塊大蛋糕,不過ASML目前也只是嘴上說說,沒有老美的允許他們是不敢貿然將光刻機賣給中國的...
也許臺積電停止向華為提供代工晶片,華為還有可能使用聯發科的晶片,但這就要看和聯發科的合作關係了...
現在為何華為佈局養豬了呢...
第三、準確抓住了技術轉折點目前世界最頂尖的光刻機有三個廠家,分別是ASML,尼康和佳能...
現在極紫外光的波長已經降到了13.4nm,林本堅的沉侵式技術並沒有被拋棄,反而被所有光刻機採用...
圖片來自網路五、關於光刻機以前,我們經常看到一些新聞說,國產的CPU龍芯之類的,怎麼生產都達不到國外的技術,為什麼呢...
碳化矽陶瓷精密結構部件製備工藝碳化矽陶瓷具有高強度、高硬度、高彈性模量、高比剛度、高導熱係數、低熱膨脹係數等優良效能,是一種理想的高效能結構材料,但將其應用於製備具有“大、厚、空、薄、輕、精”特點的光刻機等積體電路關鍵裝備用精密結構件時,卻...
如果臺積電在南京建廠了,說不定他們就投向了我們的懷抱,和我們的關係走得越來越近,這樣臺積電就會避開老美的監視,說不定還會生產一些高階晶片,所以老美是不太放心,也是不允許臺積電獨自飛翔的,便直接攔下了臺積電赴南京的腳步...
中國高階晶片製造,其實不必急於求成,在EUV光刻機取得有客觀困難的情況下,需要在成熟製程上練好基本功,把整個基礎半導體產業鏈理順,這樣才能夠在未來10-15年內避免英特爾覆轍...
2002年,臺積電公司林本堅博士提出“浸沒式光刻機技術”,打破困擾全球光刻機領域發展長達20多年無法突破193nm光源的技術難題...
華為沒必要跳過晶片製造/代工,而佈局光刻機...