華為5G技術領先後，美國就開始修改規則，尤其是在晶片方面。
據悉，美國先是禁止高通等美晶片企業自由出貨，隨後又限制使用美技術的晶片企業自由出貨，在美多次修改規則後，臺積電、聯發科等一眾晶片企業均不能自由出貨。
於是，國內廠商開始加速發展晶片製造技術，同時，政策也在多個方面給予支援，將積體電路成為獨立許可，成立積體電路學院以及降低稅收，等等。
但是，要想生產製造晶片，必須要用到光刻機，在美修改規則後，國產光刻機的訊息更是一個接一個。
例如，訊息稱，上海微電子將會在2021年下線全新一代光刻機，其曝光精度直接從90nm進步到28nm，能夠用於生產製造28nm等製程晶片。
在多次曝光工藝下，其還能夠用於生產製造7nm製程的晶片。另外，張召忠更是暗示國內實際上已經有了全新一代國產光刻機。
除了上海微電子的光刻機訊息外，中科院、清華大學、華為等也傳來關於光刻機的訊息。
據悉，中科院已經將光刻機作為主要攻克的技術難題，並將會與國內供應鏈展開合作，儘早實現先進光刻機的技術突破。
而清華大學在光源方面取得了巨大進展，因為清華大學團隊釋出了以“穩態微聚束原理的實驗演示”的研究論文。
在這篇論文中詳細介紹了一種新型粒子加速光源“穩態微聚束”的首個原理實驗，而這項光源技術是可以用於生產先進光刻機，畢竟，光刻機最主要的技術就是光源技術。
還有就是，華為也開始招聘半導體裝置人才，有訊息稱，華為已經開始與國內的上海微電子等企業合作，加速突破光刻機技術，然後建設純國產的晶片生產線。
可以說，國產光刻機不斷傳來訊息，這就說明國內廠商以及研發機構在齊心協力突破光刻機相關技術。
國產光刻機的訊息一個接一個，ASML還能坐得住麼？
國產光刻機的訊息不斷，尤其是新一代國產光刻機即將下線，並在未來1-2年內就能夠建成純國產的28nm晶片生產線。
在這樣的情況下，不少媒體都在問，ASML還能坐得住麼？
其實，答案很簡單，ASML已經坐不住了，否則其也不會三番五次的表態，還大量向國內廠商出售和交付光刻機。
例如，在態度方面，ASML急於全面進入中國市場。
美國在2020年最後一次修改規則後，僅僅過去4個月，ASML就方面明確表示，將加速向中國市場佈局，向中國廠商提供其能夠提供的一切技術。
不僅如此，ASML還表示，向國內廠商出售DUV光刻機，在一般情況下是不需要許可的。
進入2021年後，ASML仍舊接連表態，首次表態，其表示限制ASML等晶片企業自由出貨，這對於美國沒有任何好處，還將給美系技術企業帶來嚴重的損失。
再次表態時，ASML明確表示，如果一直被限制自由出貨，15年之後，ASML或將徹底退出中國市場，當然，也包含其它美國晶片企業。
僅從ASML的表態和警告就能夠看出來，ASML是坐不住了，其不願意看到偌大的中國市場白白流走。
其次，ASML加速向國內廠商銷售光刻機。
進入2021年後，ASML就加速向國內廠商出售、交付光刻機。
其中，ASML與中芯國際簽訂了12億美元的光刻機技術出售協議等，並在今年第一季度，向國內廠商交付了11臺光刻機。
最主要的是，有訊息稱，ASML一直都在爭取，以儘快向國內廠商交付其已經訂購的EUV光刻機。
從這一點來看，ASML是坐不住的，其大量向國內廠商出售、交付光刻機，就是最好的證據。
對於現在的ASML，你們怎麼看，歡迎留言、討論。
