外媒:ASML的EUV光刻機地位可能要被取代了
目前日企鎧俠已經晶片製造技術上取得突破,直接繞開了EUV光刻機最為複雜的光源技術,利用奈米壓印技術成功製造出了先進工藝晶片,理由類似“蓋章”的方式將造芯過程簡化,實現了成本的大幅降低,而佳能、尼康也在恢復光刻機的研發,正在朝著5nm工藝前行...
目前日企鎧俠已經晶片製造技術上取得突破,直接繞開了EUV光刻機最為複雜的光源技術,利用奈米壓印技術成功製造出了先進工藝晶片,理由類似“蓋章”的方式將造芯過程簡化,實現了成本的大幅降低,而佳能、尼康也在恢復光刻機的研發,正在朝著5nm工藝前行...
作為當今全球最先進的、5奈米及3奈米以下高階晶片製造不可或缺的EUV光刻機,只有阿斯麥公司能夠製造,單臺售價1...
”這樣的訊息一傳出,辭職是因為陪伴家人的傳言也不攻自破,肯定蔣尚義在中芯呆的是不開心的,在技術上又有梁孟松把持著,他的地位就比較尷尬了,而根據相對應的時間節點來看,第二次邀請他出任重要崗位,目前就是希望他幫助中芯獲取EUV光刻機...
會面的隔天,荷蘭外貿與發展合作大臣施賴納馬赫爾在接受媒體採訪時表示:在向中國出售晶片裝置的問題上,荷蘭將捍衛本國的經濟利益...
Synopsys財報資料(圖源:Synopsys)據網上資料,20人的研發團隊設計一款晶片所需要的EDA工具採購費用在100萬美元/年(包括EDA和LPDDR等IP購買成本)...
因為事實證明,EUV光刻機並不是唯一可以製造7nm及以下製程晶片的途徑,無論是3D封裝技術也好,還是光子晶片、量子晶片也罷,再或者是奈米壓印技術、1-Beta工藝、X射線光刻機等,只要其中有一條路被走通,那麼ASML的好日子就算到頭了...
此外尼康的NSR-S636E ArF 浸入式光刻機,也可以實現對5nm工藝晶片的量產,重點是2023年就將投入銷售,對於ASML來說,自家EUV光刻機壟斷的時間不多了...
目前情況下DUV光刻機並不限制中國,還在正常供應,因為供應商主要來自於歐洲荷蘭的ASML以及日本Nikon、佳能,並不直接受美國禁令,但EUV目前並未買到...
本身荷蘭ASML已經向我國停止供應EUV光刻機,而美希望ASML連上一代技術的深紫外線光刻機(DUV)也停止供應...
無論是華為的晶片疊加技術和超導量子晶片技術還是臺積電的“3D Fabri”技術,或是美光的1-beta製造技術,這些技術的成功,都是在一定程度上降低對EUV光刻機的依賴,未來甚至可以完全繞開EUV光刻機...
縱觀全球,ASML壟斷了EUV光刻機的製造,而我們今天使用的每一個先進處理器晶片,就需要這臺光刻機裝置...
縱觀全球,ASML壟斷了EUV光刻機的製造,而我們今天使用的每一個先進處理器晶片,就需要這臺光刻機裝置...
制裁的大棒無情的砸到了華為身上,臺積電被禁止代工麒麟晶片,ASML的EUV光刻機也被限制出口中國,中國晶片產業迎來最黑暗的時刻...
值得注意的是,ASML或許在EUV市場也將面臨前所未有的挑戰,訊息稱臺積電年底前將關閉部分EUV光刻機,對外宣稱是減少電費開支,但究其原因就是高階晶片產能過剩導致,而隨著全球新能源汽車、物聯網等行業的快速普及,製造成熟工藝晶片的DUV光刻機...
正在研發國產光刻機我國光刻機研發面臨的挑戰首先就是我國目前依舊缺乏高效能光刻機制造技術,從光刻機的發展歷程就能看出,它對於工藝節點的要求越來越高...
據資料顯示,在過去一年的時間內,ASML向中國市場一共出貨了78臺DUV光刻機...
臺積電馬不停蹄,繼續將EUV更多的應用與生產步驟中,推出了6nm(n6),這個工藝相容7nm,也就是說,客戶的7nm的設計,可以透過shrink的方式,生產出6nm工藝的晶片...
也就意味著EUV光刻機基本無望引進國內,就算是外企想要完成這一個操作也不可能,全球半導體市場供應鏈進一步被控制,而同時外企想要藉助中國市場,進行低成本的去生產晶片的夢想也就此破滅了,在美瞭解完各大晶片廠商具體的產能分佈之後,就可以針對每一個...
但由於ASML生產的EUV光刻機使用了美國的技術,在所謂的“出口管制規則”之內,所以到現在我國半導體企業連一臺EUV光刻機都沒有...
但事實上,光刻系統的總成本可能會更高,因為我們需要其他新裝置、新光掩模和不同的光刻膠來實現高數值孔徑 EUV...