淺談“卡脖子”之一:光刻機

淺談“卡脖子”之一:光刻機

光刻機的核心指標:光刻解析度:與曝光光源、照明系統、投影物鏡等有關套刻精度:與照明系統、投影物鏡、掩模臺/工件臺有關產率(良率):與鐳射器功率、照明系統透過率、掩模臺/工件臺運動速度有關目前製造IC的主流光刻機(IC光刻機)是採用紫外汞燈(...

2022-11-28
外媒:ASML開始“抵抗”了

外媒:ASML開始“抵抗”了

值得注意的是,ASML或許在EUV市場也將面臨前所未有的挑戰,訊息稱臺積電年底前將關閉部分EUV光刻機,對外宣稱是減少電費開支,但究其原因就是高階晶片產能過剩導致,而隨著全球新能源汽車、物聯網等行業的快速普及,製造成熟工藝晶片的DUV光刻機...

2022-09-26